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无掩模光刻机

无掩模光刻机不需要使用传统的物理掩膜版来转移电路图形,而是通过计算机控制的高精度光束直接在感光材料上进行扫描曝光,形成所需的微细图形。

  • 型号:DMD无掩膜光刻机
  • 品牌:ZEPTOOLS
  • 特点:无掩模光刻机不需要使用传统的物理掩膜版来转移电路图形,而是通过计算机控制的高精度光束直接在感光材料上进行扫描曝光,形成所需的微细图形。
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产品介绍

无掩模光刻机不需要使用传统的物理掩膜版来转移电路图形,而是通过计算机控制的高精度光束直接在感光材料上进行扫描曝光,形成所需的微细图形。目前在微电子制造、微纳加工、MEMS、LED、生物芯片等领域有广泛的应用。

无掩模光刻机

工作原理

无掩模光刻机工作原理

产品特色

▲ 纳米压电位移台拼接技术

▲ 红光引导曝光,所见即所得

▲ OPC修正算法优化图形质量

▲ CCD相机逐场自动聚焦

▲ 灰度匀光技术

技术参数

关键技术指标
紫外光源中心波长405nm
匀光率96%
极限分辨率0.5μm
单写场曝光面积1.2x0.9 mm2(10x)
2.5x1.9 mm2(5x)
刻写速率10 mm2/min (10x)
40 mm2/min (5x)
配置手动型号标准型号
光源405 LED405 LED或汞灯光源
DMD芯片65006500
微镜尺寸7.56μm7.56μm
微镜阵列1920x10801920x1080
单写场面积(10x)1.45x0.81mm1.45x0.81mm
位移台手动位移台电动位移台
离焦控制手动聚焦自动聚焦
大面积光刻手动自动拼接光刻
套刻不支持支持单场/多场套刻
灰度光刻不支持支持3D灰度光刻

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